描述:
氧化铝 (Al₂O₃) 滤芯用于湿法清洗台、单片清洗设备、化学机械抛光(CMP)设备以及光伏制绒、刻蚀设备的循环化学液管路上。可在线过滤工艺化学品(如SC1、SC2、HF、CMP浆料)中的颗粒、凝胶或微气泡,保护晶圆/电池片表面免受损伤,同时延长化学品的单批次使用寿命。
核心技术优势:
高精度表面过滤,杜绝微颗粒脱落:采用多层氧化铝颗粒烧结工艺,形成稳定的梯度孔结构,过滤精度高,且纤维零脱落,彻底解决传统深层过滤膜(如PES)初始使用时纤维迁移问题。
极低金属离子与有机物析出:经超纯水循环工艺处理,滤芯在使用初期已预冲洗,上线后24小时内关键金属离子析出即降至0.1ppb以下。
优异的抗腐蚀强度:针对含有HF或其他强酸的极端工艺,本体氧化铝材质化学惰性极强,无膨胀、无老化风险。
工况适配对照表
| 设备类型 | 应用位置 | 推荐精度 | 关键技术要求 |
| 单片式湿法清洗设备 | 化学液供给管路 (一级过滤) | 0.1 µm | 极低金属离子析出,支持在线反冲 |
| 槽式湿法工作台 | 化学液循环过滤回路 | 0.2 µm | 耐强酸、大通量、长寿命 |
| 化学机械抛光设备 | CMP浆料 (Slurry) 在线过滤 | 0.5 µm | 高剪切强度、不吸附研磨颗粒、耐磨 |
| 光伏制绒设备 | KOH/IPA 制绒液循环过滤 | 0.5 µm | 抗IPA腐蚀,耐高温 |
| 光伏刻蚀设备 | HF/HNO₃混合酸刻蚀液过滤 | 0.2 µm | 耐苛刻的混合强酸 |
应用领域:
半导体湿法设备
半导体单片清洗机
半导体化学机械抛光
半导体槽式清洗台
光伏电池湿法设备
光伏电池片制绒机
去磷硅玻璃 (PSG) 刻蚀机
案例与数据佐证:
为某晶圆厂单片清洗设备定制0.1µm高纯氧化铝滤芯,并设置循环冲洗。有效解决了单片清洗时颗粒超标、后续栅氧化层缺陷增多的问题。更换后,将滤芯的使用寿命从2周延长至3个月,化学品槽液更换频率也从每周降到每月。
FAQ区块:
问:如何判断氧化铝滤芯需要更换?
答:主要通过监控滤芯前后压差。当压差达到预设上限(通常为0.2-0.3MPa)且在线反冲无法有效恢复时便需更换。
问:氧化铝滤芯使用前需要特殊处理吗?
答:需要。必须用对应工艺化学品或超纯水充分循环冲洗,去除生产残存的微量金属离子和气泡。
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