H13-H14级过滤器-半导体及光伏制程过滤滤芯-空气过滤-产品中心-新乡市滤清器有限公司

描述：
H13/H14级空气过滤器（HEPA）为光刻机、电子束检测机、晶圆传送盒（FOUP）等设备关键模块提供ISO 3-5级（1-100级）局部超净环境，确保传送或加工的晶圆免受大气颗粒物污染。依据EN 1822标准，对MPPS (易穿透粒径) 的过滤效率达到≥99.95% (H13)或≥99.995% (H14)。

核心技术优势：

效率超高与超低阻力：采用PTFE滤料，在H14级效率下，初阻力可比传统玻纤降低30%以上，直接延长设备风机的寿命并节约能耗。

超洁净制造，极低金属离子：所有组件在百级洁净室内组装，并通过DI水冲洗工艺。Na、K、Fe等关键金属离子析出量≤0.1ppb，满足12英寸晶圆厂严苛的要求。

一体式液槽密封框架可选：提供配套的精密机加工铝合金密封框架，可直接集成于设备设计中，保证零泄漏安装。

工况适配对照表：

设备类型	应用位置	推荐等级	关键要求
光刻机工件台/晶圆传送	微环境	H14	PTFE滤料、一体式液槽密封
电子束检测显微镜	物镜内/腔室	H14	低振动、低离子析出
晶圆传送盒 (FOUP)	气体净化模块	H14	超紧凑 (h<100mm)
涂胶显影设备	内部环境颗粒控制	H13	耐溶剂腐蚀
先进封装贴片机	贴装头区域	H13	高气密性、抗静电

应用领域：

半导体设备光刻过程

半导体设备电子束检测

光伏设备电池（HJT/TOPCon）PECVD

案例与数据佐证

为某涂胶显影设备厂商定制风机过滤单元，采用H14级PTFE滤料和精密机加工的液槽密封框架。实测设备环境≥0.1μm颗粒数＜10颗/立方米，远优于设计指标；显著降低了因污染导致的设备调试和客户现场维修成本。

FAQ区块：

问：何时需要采用液槽密封？

答：当设备环境对≥0.1μm颗粒控制要求极严（如光刻、检测）或安装空间狭小、机械压紧可靠性不足时，液槽密封能提供可靠的零泄漏保证。